化工制熱低溫機組是無錫冠亞生產(chǎn)的一種制冷加熱控溫設(shè)備，具備制冷和加熱兩種功能，溫度高低溫范圍可控制在-100℃~200℃之間，可實現(xiàn)快速升溫和降溫，采用封閉循環(huán)系統(tǒng)，可根據(jù)客戶要求，提供風冷和水冷兩種預冷方式。

　　化工制熱低溫機組通過操作期間的高溫和低溫溫度控制。在使用者進行高溫和低溫操作之后，可以通過傳熱油加熱加熱，并且有兩種水冷和空氣冷卻，這兩種冷卻方法是基于密閉制冷加熱化工制熱低溫機組所在的環(huán)境選擇的。風冷是指通過空氣流產(chǎn)生熱對流，從而減小盒子的溫度以實現(xiàn)冷卻。水冷是指通過流動的水或其他冷卻液冷卻，水的冷卻效率通常高于風的冷卻效率，用戶需要根據(jù)自身條件來選擇。

　　化工制熱低溫機組通過制冷、制熱功能控制各反應器的溫度。配有循環(huán)泵，具有液體循環(huán)功能。根據(jù)槽的大小，可以在槽內(nèi)進行恒溫實驗，也可以通過軟管與其他設(shè)備連接，與恒溫源一起使用，化工制熱低溫機組應安裝在環(huán)境良好的實驗室。

　　化工制熱低溫機組通過操作期間的高溫和低溫溫度控制。在使用者進行高溫和低溫操作之后，可以通過傳熱油加熱加熱，并且有兩種水冷和空氣冷卻，這兩種冷卻方法是基于密閉制冷加熱高低溫一體機所在的環(huán)境選擇的。

　　化工制熱低溫機組主要配套不銹鋼反應釜，玻璃反應釜，搪瓷反應釜及其他設(shè)備的冷卻和加熱，用于配套高壓反應釜、雙層反應釜、微通道反應器、小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸餾系統(tǒng)控溫、材料高低溫老化測試等冷源熱源恒溫控制、半導體冷卻加熱、真空制冷加熱恒溫控制以及小中試過程反應裝置等。

化工制熱低溫機組由制冷系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、自動控制系統(tǒng)組成。對設(shè)備有防爆要求的區(qū)域，可定制防爆型。