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簡要描述：半導體溫控裝置Chiller,反應釜控溫系統(tǒng)廠家的典型應用：高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制；微通道反應器冷熱源恒溫控制、小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試；組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。
產品型號：無錫冠亞廠商性質：生產廠家更新時間：2025-01-06訪 問 量：1368| 品牌 | LNEYA/無錫冠亞 | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 產地類別 | 國產 | 應用領域 | 石油,電子/電池,包裝/造紙/印刷,汽車及零部件,電氣 |
適合化工、制藥、生化等低溫反應設備
全密閉管道式設計，高效板式熱交換器， 應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。
應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制
| 型號 | SUNDI-320 | SUNDI-420W | SUNDI-430W | |
| 介質溫度范圍 | -30℃～180℃ | -40℃～180℃ | -40℃～200℃ | |
| 控制系統(tǒng) | 前饋PID ,無模型自建樹算法，PLC控制器 | |||
| 溫控模式選擇 | 物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇 | |||
| 溫差控制 | 設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定 | |||
| 程序編輯 | 可編制10條程序，每條程序可編制42段步驟 | |||
| 通信協(xié)議 | MODBUS RTU 協(xié)議 RS 485接口 | |||
| 物料溫度反饋 | PT100 | |||
| 溫度反饋 | 設備溫度、設備出口溫度、反應器物料溫度（外接溫度傳感器）三點溫度 | |||
| 導熱介質溫控精度 | ±0.5℃ | |||
| 反應物料溫控精度 | ±1℃ | |||
| 加熱功率 | 2KW | 2KW | 3KW | |
| 制冷能力 | 180℃ | 1.5kW | 1.8kW | 3kW |
| 50℃ | 1.5kW | 1.8kW | 3kW | |
| 0℃ | 1.5kW | 1.8kW | 3kW | |
| -5℃ | 0.9kW | 1.2kW | 2kW | |
| -20℃ | 0.6kW | 1kW | 1.5kW | |
| -35℃ | 0.3kW | 0.5kW | ||
| 循環(huán)泵流量、壓力 | max10L/min 0.8bar | max10L/min 0.8bar | max20L/min 2bar | |
| 壓縮機 | 思科普 | 思科普 | 法國泰康 | |
| 膨脹閥 | 丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥 | |||
| 蒸發(fā)器 | 丹佛斯/高力板式換熱器 | |||
| 操作面板 | 7英寸彩色觸摸屏，溫度曲線顯示、記錄 | |||
| 安全防護 | 具有自我診斷功能；冷凍機過載保護；高壓壓力開關，過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。 | |||
| 密閉循環(huán)系統(tǒng) | 整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng)，高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份，系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升，低溫自動補充導熱介質。 | |||
| 制冷劑 | R-404A/R507C | |||
| 接口尺寸 | G1/2 | G1/2 | G1/2 | |
| 水冷型 W 溫度 20度 | 450L/H 1.5bar~4bar | 550L/H 1.5bar~4bar | ||
| 外型尺寸mm | 400*600*870 | 400*600*870 | 400*600*1150 | |
| 正壓防爆尺寸 | 700*750*1215 | 700*750*1215 | ||
| 標配重量 | 55kg | 55kg | 85kg | |
| 電源 | AC 220V 50HZ 2.9kW（max) | AC 220V 50HZ 3.3kW（max) | AC380V 50HZ 4.5kW（max) | |
| 外殼材質 | SUS 304 | SUS 304 | SUS 304 | |
| 選配 | 正壓防爆 后綴加PEX | |||
| 選配 | 可選配以太網接口，配置電腦操作軟件 | |||
| 選配 | 選配外置觸摸屏控制器，通信線距離10M | |||
| 選配電源 | 100V 50HZ單相，110V 60HZ 單相，230V 60HZ 單相， 220V 60HZ 三相，440V～460V 60HZ 三相 | |||
半導體溫控裝置Chiller,反應釜控溫系統(tǒng)廠家
半導體溫控裝置Chiller,反應釜控溫系統(tǒng)廠家
制冷加熱裝置也稱之為：制冷加熱動態(tài)控溫系統(tǒng)、高低溫一體機、制冷加熱循環(huán)裝置等，不同企業(yè)給予的名稱不同，是專門給反應釜做升降溫用，整個循環(huán)系統(tǒng)的導熱介質是全密閉循環(huán)，循環(huán)系統(tǒng)帶有液體膨脹容器，膨脹容器和液體循環(huán)是獨立系統(tǒng)，膨脹容器并不參與液體循環(huán)，只是機械的連接。就算高溫運行的情況下，膨脹容器中的導熱介質都不會高于50度。
無錫冠亞擁有數位在超低溫、高低溫開發(fā)方面具有豐富經驗的高素質專業(yè)設計人員的研發(fā)隊伍。特別是反應釜控溫為單一介質控制 -90度～+250 度連續(xù)控溫。產品溫度范圍涉及－152度到350度，還可以根據客戶的需求進行非標加工定做。
科學技術的發(fā)展也不斷加速了化工制藥行業(yè)的研發(fā)工作，從而促進了實驗儀器設備的不斷發(fā)展，我國現在處于儀器設備高度發(fā)展時期，制冷加熱裝置也迎來了廣闊的前景，進入了快速發(fā)展時期。
據無錫冠亞技術人員介紹，制冷加熱裝置采用的導熱介質在一個密閉的系統(tǒng)中，帶有導熱介質的膨脹容器不參與循環(huán)過程，無論是高溫低溫，膨脹容器的溫度始終保持在常溫60℃，延長了導熱介質的使用壽命。由于使用的是同一介質，不需要更換介質和在不需要加壓的情況下就可以實現-90℃~195℃、-70℃~220℃、-55℃~250℃、-25℃~300℃連續(xù)控溫。只用同一種介質就可以快速響應控制溫度，可以在-120℃~300℃范圍內實現流體系統(tǒng)控溫。單一壓縮機制冷技術可以達到-150℃的溫度，并且體積更小，更容易抬放。
